技术参数：

分辨率：3.0nm @ 30 KV(SE与W)、4.0nm @ 30 KV(VP with BSD)；加速电压：0.2-30KV；放大倍数：5-1000000倍； 探针电流：0.5PA-5μA；X-射线分析工作距离：8.5mm、35°接收角；低真空压力范围：10-400Pa(选配10-750Pa、LS10:环扫模式10-3000pa)；工作室：365mm (Φ) x 275 mm (h)；5轴优中心自动样品台：X=125mm、Y=125mm、Z=50mm、T= -10°- 90°、R=360°(l连续)；最大试样高度：145mm、最大试样直径：250mm；系统控制：基于Windows 7 的Smart SEM 操作系统。

功能特色：

1. 分析型 X 射线几何与多探头配置：标配 EDS/WDS 接口，采用利于 X 射线取出的几何设计（分析工作距离 8.5 mm，出射角 35°），并配备背散射探测器，可在形貌观察的同时获取丰富的成分与形态信息。

2. 大腔室与自动化操作便利性：样品室可容纳直径 250 mm、高 145 mm 的样品，五轴电动台行程充裕；结合 Smart SEM 界面与自动化成像功能，降低了非专家用户的操作门槛，适合多用户平台的常规测试与批量检测。

服务内容：

1.光电子能谱是研究材料表面和界面电子及原子结构的最重要手段之一，可提供物质表面几个原子层的元素定性、定量信息和化学状态信息；

2.可对非均相覆盖层(如薄膜)进行深度分布分析，了解元素随深度分布的情况；可对元素及其化学态进行成像，给出不同化学态的不同元素在表面的分布图像；还可利用UPS(紫外光电子能谱)研究固体样品的价电子和能带结构及功函数。

3.广泛应用于固体物理学、基础化学、催化科学、腐蚀科学、材料科学、微电子技术及薄膜研究。

制样要求：

1.样品在真空下必须稳定，无腐蚀性，无磁性，无挥发性；

2.样品须为固态样品(片状、块状或粉末)块状样品尽量小(1×1× 2 mm³，高度不可超过2 mm)；

3.在样品的保存和传送过程中应尽量避免样品表面被污染，不可用手触摸样品表面。