技术参数：

（1）能量分辨率： ≤0.5 eV（Ag 3d5/2峰半高宽）。

（2）检测灵敏度： 大束斑计数率≥6,500,000 cps；≤20 μm小束斑计数率≥300,000 cps（均在Ag 3d5/2峰半高宽≤1.0 eV条件下）。

（3）真空系统： 分析室极限真空度≤5×10⁻⁹ mbar。

（4）X射线光源： 微聚焦单色化X射线源，功率≤120 W，束斑尺寸10–400 μm连续可调，最小聚焦束斑≤10 μm。

（5）电子能量分析器： 双聚焦半球型能量分析器，通道能范围1–400 eV，配置≥128通道微通道板探测器。

（6）样品台： X、Y、Z三轴移动及旋转控制，移动范围≥60 mm×60 mm，支持一次装载≥80个样品。

（7）离子刻蚀系统： Ar⁺单离子刻蚀能量500–4000 eV，团簇离子刻蚀能量2000–8000 eV。

（8）角分辨XPS： 角度分辨率≤1°，支持角分辨数据分析。

（9）UPS分析： 配备He紫外光源，能量分辨率≤120 meV。

功能特色：

（1）采用微聚焦单色化X射线源、高灵敏度电子能量分析器及自动电荷中和技术，可实现材料表面元素组成、化学价态及相对含量的高精度分析。具备微区XPS、角分辨XPS及紫外光电子能谱（UPS）测试能力，可用于研究材料表面化学状态及电子结构。

（2）配备单离子与氩团簇离子刻蚀系统，可开展材料表面深度剖析和薄膜多层结构分析。（3）具有全自动多样品台、自动样品定位、真空样品转移仓及智能数据处理功能，适用于粉末、块体、薄膜及空气敏感材料的表面分析。

服务内容：

（1）材料表面元素组成分析、元素定性及相对含量定量分析。

（2）元素高分辨XPS能谱测试、化学价态及化学键合状态分析。

（3）微区XPS测试及材料表面局部区域元素分布分析。

（4）Ar⁺离子及氩团簇离子刻蚀、深度剖析与元素纵向分布分析。

（5）角分辨XPS测试及材料表面不同探测深度的化学状态分析。

（6）紫外光电子能谱（UPS）测试及材料表面电子结构分析。

（7）空气敏感样品真空保护转移及表面化学状态测试。

制样要求：

（1）样品清洁与包装： 样品应干燥、洁净、稳定，无明显油污及杂质。严禁用手直接接触测试表面，建议采用洁净密封或真空包装，减少表面污染及C、O、N、Si等元素的检测干扰。

（2）不同形态样品要求： 块体样品表面应平整、洁净，标明测试面，建议尺寸不超过5 mm×5 mm×3 mm；粉末样品应充分干燥、研细，送样量不少于10 mg；液体样品需滴涂于硅片、铝箔等基底并充分干燥后送检，不得残留溶剂。

（3）磁性样品要求： 送样前须说明样品有无磁性及磁性强弱。弱磁性样品经确认后可安排测试；具有明显磁性或较强剩磁的样品须提前评估，避免磁场干扰光电子能量分析及仪器正常运行。

（4）特殊及危险样品： 样品应适应高真空环境，在X射线及Ar离子束照射下保持稳定，不得释放有害气体。含F、Cl、Br、I、S、Hg、P等可能挥发或产生腐蚀性物质的样品，以及易氧化、易吸湿或具有其他危险性的样品，须提前说明并经评估确认。

（5）送样信息与测试要求： 需提供样品名称、主要成分、待测元素、测试目的及特殊性质。默认每个样品测试一个位置，多位置测试另行计费；深度剖析、角分辨XPS、UPS及空气敏感样品测试需提前沟通确认。